TiAl 스퍼터링, 진공 코팅 항공우주용 Ti50Al50 타겟

제품 상세 정보:
원래 장소: 중국
브랜드 이름: Jinxing
인증: ISO
모델 번호: TiAl 스퍼터링 타겟 Ti50Al50
결제 및 배송 조건:
최소 주문 수량: 10kgs
가격: 10-100USD/kg
포장 세부 사항: 표준 수출 패키지
배달 시간: 10days
지불 조건: L/C (신용장), 전신환
공급 능력: 10개 톤 달

상세 정보

순도: Al-Ti(35/65at%), Al/Ti(50:50at%) 형태: 디스크, 플레이트, 단계
인증: ISO 9001:2008 상술: 요구로서 맞춤화됩니다
절차: HIP 이름: 스퍼터링 타겟 Ti50Al50
하이 라이트:

TiAl 스퍼터링 타겟

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Ti50Al50 스퍼터링 타겟

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진공 코팅 스퍼터링 타겟

제품 설명

스퍼터링 타겟 Ti50Al50

JX는 고품질 스퍼터링 타겟 Ti50Al50, 스퍼터링 타겟, 세라믹 타겟, 금속 타겟 생산을 전문으로 합니다.
제품은 다양한 방법(마그네트론 스퍼터링, 진공 도금 등)에 의해 진공 코팅의 다양한 분야에 적용됩니다: 과학 연구, 항공 우주, 자동차, 마이크로일렉트로닉스, 집적 회로 산업, 광원, 광학, 장식, 평판 디스플레이 산업, 정보 스토리지 산업, 데이터 스토리지 등.

 

1. 메탈 타겟
니켈 타겟, 티타늄 타겟, 아연 타겟, 크롬 타겟, 마그네슘 타겟, 니오븀 타겟, 주석 타겟, 알루미늄 타겟, 인듐 타겟, 철 타겟, 지르코늄 타겟, 실리콘 타겟, 구리 타겟, 탄탈륨 타겟, 게르마늄 타겟, 은 타겟, 금 타겟 , 가돌리늄 타겟, 란탄 타겟, 이트륨 타겟, 세륨 타겟, 하프늄 타겟, 몰리브덴 타겟, 텅스텐 타겟, 스테인리스 스틸 타겟, 지르코늄 알루미늄 타겟, 니켈 철 타겟, 티타늄 알루미늄 타겟, 니켈 크롬 타겟, 구리 인듐 갈륨 셀레늄 타겟, 알루미늄 실리콘 타겟, 아연 알루미늄 타겟 등

 

2. 세라믹 소재 대상
ITO 타겟, AZO 타겟, IGZO 타겟, 산화마그네슘 타겟, 산화이트륨 타겟, 산화철 타겟, 산화니켈 타겟, 산화크롬 타겟, 산화아연 타겟, 황화아연 타겟, 황화카드뮴 타겟, 황화몰리브덴 타겟, 이산화규소 타겟, 실리콘 일산화탄소 타겟, 산화세륨 타겟, 이산화지르코늄 타겟, 오산화니오븀 타겟, 이산화티타늄 타겟, 이황화 몰리브덴 타겟, 이산화 하프늄 타겟, 이붕화티타늄 타겟, 이붕화지르코늄 타겟, 삼산화텅스텐, 삼산화알루미늄 타겟, 오산화탄탈륨 타겟, 불화마그네슘 타겟 , 불화 이트륨 타겟, 셀렌화 아연 타겟, 질화 알루미늄 타겟, 질화 규소 타겟, 질화 붕소 타겟, 질화 티타늄 타겟, 탄화 규소 타겟, 니오브산 리튬 타겟, 티탄산 프라세오디뮴 타겟, 티탄산 바륨 타겟, 티탄산 란탄 타겟 등

 

3. 합금 소재 대상
티타늄 알루미늄 Ti-Al, 알루미늄 규산염 Al-Si, 알루미늄 티타늄 Al-Ti, 은 구리 Ag-Cu, 알루미늄 마그네슘 Al-Mg, 코발트 철 붕소 Co-Fe-B, 구리 인듐 갈륨 Cu-In-Ga, 페리망간 Fe -Mn, 인듐 주석 In-Sn, 코발트 철 Co-Fe, 니켈 코발트 Ni-Co, 니켈 철 Ni-Fe, 니켈 크롬 Ni-Cr, 니켈 지르코늄 Ni-Zr, 니켈 알루미늄 Ni-Al, 니켈 구리 Ni-Cu , 니켈 바나듐 Ni-V, 티타늄 텅스텐 Ti-W, 아연 알루미늄 Zn-Al, 알루미늄 티타늄 붕소 Al-Ti-B, 알루미늄 바나듐 Al-V, 알루미늄 스칸듐 Al-Sc, 구리 주석 Cu-Sn, 지르코늄 알루미늄 Zr- 알, 붕소 철 등

 

스퍼터링 타겟 Ti50Al50 그림:

TiAl 스퍼터링, 진공 코팅 항공우주용 Ti50Al50 타겟 0TiAl 스퍼터링, 진공 코팅 항공우주용 Ti50Al50 타겟 1

스퍼터링 타겟 Ti50Al50설명

청정 Al-Ti(35/65at%), Al/Ti(50:50 at%), AlTi 97/3wt%, AiTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt%
모양 디스크, 플레이트, 단계(직경 ≤300mm, 두께 ≥1mm)
직사각형, 시트, 단차(길이 ≤1000mm, 너비 ≤300mm, 두께 ≥1mm)
튜브(직경<300mm, 두께>2mm
인증 ISO 9001:2008
사양 요청으로 사용자 정의
프로세스 단조, 압연, 연삭
애플리케이션

1. 전기도금;

2. 화학 공학 및 석유 화학 기술;

3. 의료

밀도/원산지 4.51g/cm3 /허난성

 

 

고순도 금속 스퍼터링 타겟
알류미늄 펠릿, 원형, 평면, 회전 가능한 대상 3N~6N
크로늄 크롬 2N~3N5
백금 백금 4N~5N
니켈 4N~5N
코발트 공동 3N~4N
지르코늄 Zr 2N2~4N
티탄 4N~5N
구리 4N~5N
몰리브덴 3N~4N
니오브 NB 3N5
타탈룸 고마워 4N5
텅스텐 3N5
하프늄 에프 3N
바나듐 V 2N5~3N

 

 

 

티타늄 알루미늄 합금 타겟/Ti-Al 타겟 Ti: 알 33:67%
마그네슘 미네소타 영형 NS
46.30 53.20 0.075 0.066 0.030 0.013 0.016 0.008 0.095 0.003

 

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