99.5% 99.9% 99.95% Chrome 침을 튀기기 표적 3x3mm 증발 물자를 위해 6x6mm

증발 99.5%, 99.9%, 99.95%를 위한 크롬 실린더

증발 코팅의 원리 :

물질 증발 운송부터 증착까지 코팅하는 증발의 물리적 과정은 다음과 같습니다 :

1. 모든 종류의 에너지를 열 에너지로 변환시키고, 증발하거나 승화하기 위해 도금 물질을 가열하고, 어떤 에너지 (0.1-0.3ev)로 기체 입자 (원자, 분자 또는 원자단)이 되세요 ;

2. 도금 물질의 표면을 남길 때, 상당한 속도와 가스 입자는 근본적으로 충돌 무료 선 비행기에서 기판의 표면에 운반됩니다 ;

3. 단단한 위상 필름은 기판의 표면적으로 가스 입자의 결로에 의해 형성됩니다 ;

4. 영화를 구성하는 원자는 재배열되거나 화학적으로 계약됩니다.

많은 종류의 증발 코팅 자료가 있습니다. 요즈음, 수 백의 그들이 있고 주로 시장에서 사용됩니다. 생산 과정은 주로 다음을 포함합니다 : 수정 분쇄, 녹는 분쇄, 철사 제조, 와이어 절단, 조립, 해쇄, 정제 프레싱, 캐스팅, 주조, 기타 등등. 제품 형상은 주로 다음을 포함합니다 : 선재 철강, 파우더, 불규칙 입자, 작은 실린더, 작은 공, 콘

주요 생산물은 다음과 같습니다 :

다음과 같이 다음 (입자, 블록과 파우더는 주문 제작된) 알루미늄 입자일 수 있습니다 99.99% 3 * 3 밀리미터 ; 99.999% 3 * 3 밀리미터 구리 입자 99.99% 3 * 3 밀리미터 ; 99.999% 3 * 3 밀리미터 철 입자 99.9% 2 * 3 밀리미터 티타늄 입자 99.999% 6 * 6 밀리미터 바나듐 입자 99.9% 3 * 3 밀리미터 니켈 입자 99.999% 6 * 6 밀리미터 크롬 입자 99.95% 3-5mm 코발트 입자 99.95% 2-8mm 망간 입자 99.8% 1-10 밀리미터 바륨 입자 (탈산화제로서 사용된) 99.6% 2-6cm (탈산화제로서) 칼슘 분재 99.5% 1-3mm 텅스텐 입자 99.95% 6 * 6 밀리미터 니오븀 입자 99.95% 6 * 6 밀리미터 몰리브덴 입자 99.95% 6 * 6 밀리미터 탄탈륨 입자 99.95% 6 * 6 밀리미터 지르코늄 입자 99.5% 1.6 * 5 밀리미터 ; 99.95% 2.4 * 5 밀리미터 크리스탈 하프늄은 99.9% d21mm 하프늄 입자 99.9%를 막대를 답니다.

고순도 알루니늄 알루미늄, 고순도 구리 cu, 고순도 티타늄 ti, 고순도 실리콘, 높은 순도 금 Au, 높은 순 은 AG, 고순도 인듐에, 고순도 마그네슘 마그네슘, 고순도 아연 아연, 고순도 백금 Pt, 고순도 게르마늄 Ge, 높은 순수 니켈 Ni, 고순도 탄탈륨 ta, 금 게르마늄 합금 아우제, 금니켈합금 아우니, 니켈 크롬 합금 니크레, 티타늄 알루미늄 합금 TiAl, 인듐동 갈륨 합금 쿠인가, 인듐동 갈륨 셀레늄 합금 커링레이스, 아연 알루미늄 합금 즈날, 알루미늄실리콘합금 알시와 다른 금속 코팅재.

박막 물질의 핵 형성과 성장 이론

1. 자발 핵형성 핵 생성 공정은 위상 전이 자유 에너지에 의해 가동됩니다.

2. 비 자발 핵형성 - 위상 전이 자유 에너지의 추진력 뿐 아니라 새로운 국면 핵심의 형성을 돕기 위한 다른 요소가 있습니다.

3. 필름 성장의 수정 밴드모형

원자 증착의 3 절차가 있습니다 : 증기 원자 기탁 또는 흡착작용, 표면 확산과 벌크 확산.

막 구조의 형성은 밀접하게 기판 온도 TS / TM과 침착된 원자의 에너지와 관련됩니다. TS는 기판 온도이고 TM이 적층물의 융해점입니다.