둥근 PVD 코팅 크롬 침을 튀기기 표적/관/판 모양

제품 상세 정보:
원래 장소: 중국
브랜드 이름: JINXING
인증: ISO 9001
모델 번호: 크롬 침을 튀기기 표적
결제 및 배송 조건:
최소 주문 수량: 1kg
가격: 20~100USD/kg
포장 세부 사항: 합판 상자
배달 시간: 10~25 일 일
지불 조건: L/C, D/A, D/P, T/T, 서부 동맹
공급 능력: 100000kgs/M

상세 정보

애플리케이션: PVD 코팅, 재료: 크롬, 크롬
절차: CIP, 멋진 레코드 사이즈: 맞춤형
비중: 7.19g/cm3 형태: 라운드, 플레이트, 튜브 스퍼터 표적
결정립 크기: 격자형 홈 사이즈, 좋은 비중 순도: 99.5%, 99.9%, 99.95%
하이 라이트:

타겟을 스퍼터링시키는 크롬을 코팅하는 PVD

,

CIP 스퍼터 표적 라운드 튜브

,

타겟을 스퍼터링시키는 격자형 홈 사이즈

제품 설명

크롬 스퍼터 표적

크롬 스퍼터링 타겟 재료는 은 하얀 광택 금속이고, 순수한 크롬이 연성을 가지고 있고, 음란을 포함하는 크롬이 단단하고 부서지기 쉽습니다. 비중은 7.19g/cm3 입니다. 강한 알칼리성 솔루션에 잘 용해됩니다. 크롬은고 내식성을 가지고 있고 산화가 심지어 레드 히트의 주에서 조차, 공기에 느립니다. 물에서 녹지 않습니다. 금속에 도금되는 것에 의한 보호

 

  • 가열 압착
  • 열간 등압 압축 성형 (엉덩이)
  • 냉간 정수압 프레싱 (CIP)
  • 진공소결
  • 유도 용융
  • 진공용해 & 캐스팅
  • 아크 용해
  • 전자 빔 용해
  • 플라즈마 스프레잉
  • 준석출
  • 기술

크롬 스퍼터 표적, 크로미움 타겟은 가변적인 크기에 이용할 수 있습니다

 

 

분말 야금에 의해 준비된 고순도 크롬 스퍼터 표적의 전통적 소결 공정은 분석되고 최적화됩니다. 타겟 밀도가 곰팡이 레코드 + 소결 또는 냉간 정수압 프레싱 + 소결과 스퍼터 표적을 처리하고 합리적으로 소결 온도를 제어함으로써 효과적으로 보증될 수 있다는 것을 실험 결과는 보여줍니다.

 

등급 : 크롬 스퍼터 표적
  순도 : 99.5%, 99.9%, 99.95%
패밀라르 사이즈 D100x40mm, D65x35mm
비중 :  7.19g/cm3
형성하세요 : 라운드 형상, 튜브 모양과 플레이트 형상.

 

사이즈 :

 

플레이트 스퍼터 표적 :

 

두께 : 0.04 1.40 " (1.0 내지 35 밀리미터)에.

폭 최고 20까지 " (50 내지 500 밀리미터).

길이 : 3.9 " 내지 6.56 피트( 100-2000mm)

요청된 것으로서의 다른 사이즈.

 

실린더 스퍼터 표적 :

 

3.94 Dia. X 1.58 " (100 Dia. X 40 밀리미터)

2.56 Dia. X 1.58 " (65 Dia. X 40 밀리미터)

또는 요청된 것으로서의 63*32mm 다른 사이즈.

 

튜브 스퍼터 표적 :

 

2.76 OD X 0.28 WT X 39.4"L (70 OD X 7 WT X 1000 밀리미터 L)

3.46 OD X 0.39 WT X 48.4"L (88 OD X 10 WT X 1230 밀리미터 L)

요청된 것으로서의 다른 사이즈.

 

자전관 스퍼터링을 위한 순수한 크로미움 타겟의 진공 소결 공정의 열역학 해석을 기반으로, 소결 공정을 위한 필수 요건은 확립되고 소결형 관행에 적용되었습니다. 산소 농도 0.07% 이하와 스퍼터 표적은 성공적으로 달성되었습니다.

 

 

타입 애플리케이션 주요 불순물 요구
반도체 집적 회로에 쓸 코어재을 준비 W. 텅스텐 티타늄 (WTI), 4N 이상 또는 5N의 순도와 Ti, Ta, Al 합금, Cu, 기타 등등

 

 

 

최상위 기술적 요구, 초순도 금속,고 정밀도 크기, 고집적화

 

화면 디스플레이 스퍼터링 기술은 피막균일성 생산을 보증하고, 생산성을 향상시키고 비용을 줄입니다 니오븀 목표, 실리콘 타겟, Cr 목표, 몰리브덴 목표, 몬비, 알루미늄 타겟, 알루미늄 합금 타겟, 구리 타겟, 구리 합금 타겟

 

 

 

높은 기술적 요구, 고순도 물질, 큰 소재 영역과 균일성의 높은 정도

 

장식하세요 그것은 마모 방지와 부식 저항성의 효과를 미화하기 위해 제품의 표면위에 코팅해서 사용됩니다

 

 

 

 

크로미움 타겟, 티타늄 타겟, 지르코늄 (즈르), 니켈, 텅스텐, 티타늄 알루미늄, CRSI, 크티, 크럴즈르, 강철 목표

 

주로 장식, 에너지 절약, 기타 등등에 대해 사용됩니다
세공

 

 

 

도구와 곰팡이의 표면을 강화하, 서비스 수명과 제조 부품의 질이 개선합니다

 

TiAl 목표, Cr 알루미늄 타겟, Cr 목표, 티탄 대상, 주석, 안면 경련, Al203, 기타 등등 높은 성능요건과 긴 서비스 라이프
태양광 발전 4 세대 얇은 필름 태양 전지의 제작을 위한 스퍼터 박막 기술 아연 알루미늄 산화물 타켓, 산화 아연 타겟, 아연 알루미늄 목표, 몰리브덴 목표, 황화 카드뮴 (CDS) 목표, 인듐동 갈륨 셀레늄, 기타 등등 폭넓은 응용
전기 액세서리

 

 

 

 

막 저항값과 필름 캐패시턴스를 위해

 

니크레 목표, 니크레 목표, Cr 실리콘 대상, 탄탈륨 대상, 니크레 알루미늄 타겟, 기타 등등 작은 사이즈, 좋은 안정성과 작은 저항-온도 계수는 전자 장치에 필요합니다
정보 스토리지

 

 

 

 

자기 기억 장치를 만대서

 

기반을 둔 C , 기초가 된 Co, 기초가 된 CO Fe, 니켈계 합금 상위 기억 장소 밀도,고 투과율 고속

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