고순도 날카로운 텅프렌 바늘 전극
상세 정보 |
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등급: | W1,WMo | 열전도율: | 110W/mK |
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고온저항: | 최대 3000°C | 크기: | 그림에 의해 만들어집니다 |
항복 강도: | ≥800MPa | 가공: | 롤링, 용접, 가공 |
표준: | ASTM B760 |
제품 설명
고순도 텅스텐 이온 이식 부품 설명
원프라멘 물질은 높은 밀도, 높은 녹는점, 높은 온도의 안정적인 화학적 특성, 작은 열 분화,좋은 열전도성 및 긴 사용수명, 그것은 반도체 산업의 이온 이식 장치에 대한 이온 소스와 소모품의 첫 번째 선택이되었습니다.고 순수 텅프렌 이온 이식 부품은 분자 금속 공정을 통해 텅프렌 또는 텅프렌 합금 재료로 만들어집니다., 탁월한 경화 저항성 및 산화 저항성, 높은 열 및 전기 전도성, 높은 강도와 경화, 그리고 매우 낮은 증기 압력.좋은 스크립 저항과 마모 저항의 장점은 정밀성과 순수성 이온 이식 보장고 순수 텅스텐 이온 이식 부품은 주로 반도체, 금속 가공, 세라믹 및 기타 산업에서 이온 이식 프로세스에 사용됩니다.그리고 항공우주 분야에서 널리 사용될 수 있습니다., 과학 실험, 금속 가공, 고온 오븐, 사파이어 정제 산업 및 세라믹 산업.
고순도 텅스텐 이온 이식 부품 사양:
등급 | WMO, WNiFe |
기술 | 롤링, 폼핑, 평평화, 앵일링, 가공 |
녹는점 | 3410°C |
순수성 | ≥95% |
크기와 형태 | 그림에 따르면 |
최대 외부 지름 | 800mm |
밀도 | 19.3g/cm3 |
표면 | 닦기, 화학 청소, 파우더 코팅 등 |
표준 | ASTM B777,DIN,GB,ISO,JIS |
인증 | ISO900 |
고 순수 텅스텐 이온 이식 부품 그림
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