PVD 티타늄 합금 스프터링 목표

제품 설명

PVD 티타늄 합금 스프터링 목표 설명

PVD 코팅 기술은 고체 상태에서 기체 상태로 물질을 물리적으로 변환하여 얇은 필름을 형성하기 위해 표적 기판에 퇴적됩니다.대상 재료의 특성은 품질에 직접적으로 영향을 미칩니다.PVD 티타늄 합금 스프터링 타겟 PVD 티타늄 합금 스프터링 타겟은 고품질의 티타늄 합금 재료 (티타늄 알루미늄과 같은) 로 만들어집니다.,크로미움 또는 니켈) 을 진공 용해 또는 뜨거운 동전 압축으로 만들어집니다. 그것은 높은 순도, 화학적 안정성 및 전도성 또는 반사 필름의 우수한 기계적 특성을 제공할 수 있습니다.PVD 티타늄 합금 스프터링 타겟은 높은 특수 강도를 가지고 있습니다, 우수한 경화 저항성 및 산화 저항성, 높은 온도 저항성, 마모 저항성, 좋은 생물 호환성, 높은 코팅 품질 및 우수한 특성.그것은 반도체 장치에 널리 사용됩니다, 딱딱한 코팅 및 부식 방지 코팅 (도구 경화와 사용 수명 향상), 장식 코팅 (다양한 색상과 반짝이는 표면 처리).

PVD 티타늄 합금 스프터링 목표 사양:

PVD 티타늄 합금 스프터링 목표 그림