텅스텐과 몰리브덴 제품 이온 주입원

제품 설명

텅스텐과 몰리브덴 일부을 얻는 이온 주입원

텅스텐과 몰리브덴 일부을 얻는 이온 주입원은 반도체의 생산의 중요 프로세스입니다. 임플랜터 시스템은 전도성 또는 결정 구조와 같은 물질 특성을 변경하기 위해 이종 원자로 웨이퍼를 도핑합니다. 빔 통로는 임플랜터 시스템의 센터입니다. 여기에서 이온은 발생되고, 집중되고, 매우 가속화되고 매우 높은 고속에 웨이퍼에 집중됩니다.

내화 금속류로부터 만들어진 우리의 부품과 예비품은 이 과정이 가능한 것 음란의 효율적, 정확한 그리고 자유롭다는 것을 보증하기 위해 돕습니다.

텅스텐과 몰리브덴 일부 기술을 얻는 이온 주입원

우리는 고급 품질, 정밀 기계화 몰리브덴을 제공하고 이온 주입, 유기 금속 CVD 법, CVD, PVD를 포함하여 장비를 처리하기 위한 텅스텐 성분은 반도체의 제조에 사용했습니다.
경험을 제조하는 우리 것과 전문과 몰리브덴과 텅스텐 재질에 대한 지식은 우리가 당신의 내역을 만족시키는 정밀 기계화 성분을 제공할 수 있게 합니다.

우리는 OEM 품질에서 이온 임플랜터를 위해 텅스텐, 몰리브덴, 티타늄과 진보적 세라믹 부품과 예비품을 공급합니다.
음극, 아크 챔버, 리펠러, 측면 / 끝판과 axcelis와 베리안 임플랜터을 얻는 이온 소스에서 파스너를 포함하는 우리의 주요 생산물은 12와 16 웨이퍼의 생산 처리에서 일했습니다.

고청정도 텅스텐화 몰리브데눔 아크 챔버는 반도체 칩류를 위한 기본 보장입니다. 고성능 이온 소스 텅스텐과 몰리브덴 부품은 매우 기계 관리의 주파수를 감소시키고 고객들을 위한 최상의 선택인 고객의 생산력을 보증합니다.

텅스텐과 몰리브덴 일부 그림을 얻는 이온 주입원 :

몰리브덴 이온 주입 성분의 상술