
고순도 몰리브덴 디스크 Mo 타겟
상세 정보 |
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상품 이름: | 몰리 이온 이식 부품 | 등급: | Mo1 |
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비중: | 10.2 G/cm3 | 순도: | >=99.95% |
인장 강도: | >322MPa | 신장: | <21% |
표준: | ASTM B387-2010 | 애플리케이션: | 금속 처리 |
강조하다: | Mo1 몰리브덴 제품,99.95% 이온 주입 부품,금속 가공 이온 주입 부품 |
제품 설명
몰리 이온 주입 부품은 비반도체 재료의 이온 주입 표면 개질 연구 및 적용에 보다 효과적이고 널리 사용됩니다.많은 질소 이온 주입은 실현할 수 없으며 금속 이온 주입은 잘 실현할 수 있습니다.그러나, 반도체 이온 주입의 필요성에 기반한 기존의 이온 주입기는 상대적으로 강한 금속 이온빔을 얻기 어렵고, 비반도체 물질의 이온 주입 표면 개질 비용도 상대적으로 비싸다.
사양 및 화학 성분(표준)
재료 | 등급 | 화학 성분(중량 기준) |
퓨어몰리 | 모1 | >99.95%분모 |
Ti-Zr-Mo 합금 | TZM | 0,5% Ti / 0,08% Zr / 0,01 - 0,04% C |
Mo-Hf-C | MHC | 1,2 % Hf / 0,05 - 0,12 % C |
몰리 레늄 | 더 | 5.0% 재 |
몰리 텅스텐 | MoW20 | 20,0% W |
몰리 텅스텐 | MoW505 | 0.0% W |
이온 주입은 이온빔이 진공 상태에서 고체 물질로 방출될 때 이온빔이 고체 물질의 원자 또는 분자를 고체 물질의 표면 밖으로 두드리는 것을 의미합니다.이 현상을 스퍼터링이라고 합니다.
이온빔이 고체 물질에 닿으면 고체 물질 표면에서 반사되거나 고체 물질을 통과합니다.이러한 현상을 산란이라고 합니다.
또 다른 현상은 이온빔이 고체 물질에 입사된 후 고체 물질의 저항에 의해 서서히 감소되어 최종적으로 고체 물질에 머무르는 현상이다.이 현상을 이온 주입이라고 합니다.
표면 처리 기술의 우수성, 실행 가능성 및 광범위한 시장 전망은 점점 더 많은 부서 및 단위에서 인식되고 널리 사용되었습니다.수년간의 연구 개발에 따르면 금속 이온 주입은 특히 다음 유형의 도구, 금형 및 부품의 표면 처리에 적합합니다.
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