스퍼터링되는 알루미늄 판은 반도체 산업을 위한 고순도를 목표로 삼습니다

알루미늄 판 스퍼터 표적 (알) 고순도 99.999%

고순도 알루미늄 괴 (99.995%)는 열간 압연에 의해 좋은 표면과 형태와 대규모 고청정도 알루미늄 판으로 준비하기 위해 원료로서 사용되었습니다. 다른 온도에 단련된 고청정도 알루미늄 플레이트의 미세조직은 연구되었습니다. 결과는 각각 45 분과 55 분 동안 280 Ｃ에 단련한 후 그것을 보여줍니다, 그 95% 변형과 굴려진 알루미늄 박판이 좋은 결정립 크기와 등축 구조를 획득할 수 있고 그것의 평균 입자 직경이 각각 62.4 μ Ｍ와 128.4 μ Ｍ인 것처럼. 마지막의 회전 변형은 제품의 결정립 크기에 미치는 결정적 영향을 가집니다. 더 크게 변형은 있을수록, 더 작게 곡물이 있습니다

물질 세상은 4N부터 7N까지 고순도 물질을 제공합니다 : 반도체 산업과 전자 공업의 기초 자료로서, 분야 발광성 표지, 트에르모일렉트로닉스, 전자, 적외선인 정보, 태양 전지, 고성능 불순물, 등을 포함하여 고순도 물질은 넓게 다양한 산업적인 필드에서 사용됩니다. 진싱 매테크는 국내이고 국제 고객들의 필요를 충족시켜 주기 위해 모든 범위의 초순도 물질을 공급합니다. 우리는 또한 고청정도 원료를 제공할 뿐만 아니라, 초고속 순도 금속 마그네트론 스퍼터 표적, 태양 전지 마그네트론 스퍼터 표적, 태양 필름 증발 코팅 물질, 전자적 고청정도 선재 철강, 스트립, 파우더와 같은 손님들에 쓸 다양한 고청정도 원료를 만들 수 있습니다...

사이즈 :

플레이트 스퍼터 표적 :

두께 : 0.04 1.40 " (1.0 내지 35 밀리미터)에.

폭 최고 20까지 " (50 내지 500 밀리미터).

길이 : 3.9 " 내지 6.56 피트( 100-2000mm)

요청된 것으로서의 다른 사이즈.

실린더 스퍼터 표적 :

3.94 Dia. Ｘ 1.58 " (100 Dia. Ｘ 40 밀리미터)

2.56 Dia. Ｘ 1.58 " (65 Dia. Ｘ 40 밀리미터)

또는 요청된 것으로서의 63*32mm 다른 사이즈.

튜브 스퍼터 표적 :

2.76 OD Ｘ 0.28 WT Ｘ 39.4"L (70 OD Ｘ 7 WT Ｘ 1000 밀리미터 Ｌ)

3.46 OD Ｘ 0.39 WT Ｘ 48.4"L (88 OD Ｘ 10 WT Ｘ 1230 밀리미터 Ｌ)

요청된 것으로서의 다른 사이즈.